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Luoyang Forged Tungsten-Molybdenum Material Co., Ltd.
ホーム 製品ニオブの合金

8.6g/Cm3ニオブは半導体のためのニオブの放出させるターゲットを合金にする

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8.6g/Cm3ニオブは半導体のためのニオブの放出させるターゲットを合金にする

8.6g/Cm3 Niobium Alloys Niobium Sputtering Target For Semiconductor
8.6g/Cm3 Niobium Alloys Niobium Sputtering Target For Semiconductor 8.6g/Cm3 Niobium Alloys Niobium Sputtering Target For Semiconductor 8.6g/Cm3 Niobium Alloys Niobium Sputtering Target For Semiconductor

大画像 :  8.6g/Cm3ニオブは半導体のためのニオブの放出させるターゲットを合金にする

商品の詳細:
起源の場所: ルオヤン河南、中国
ブランド名: Forged
証明: ISO9001:2008
モデル番号: カスタマイズされる
お支払配送条件:
最小注文数量: 1つのkg
価格: can be negotiate
パッケージの詳細: 中泡シートとの標準的な木の場合
受渡し時間: 1-30日
支払条件: T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram、L/C、D/P、D/A
供給の能力: 50MT/Month
詳細製品概要
ブランド: 鍛造物 材料: ニオブ
密度: 8.6g/cm3 純度: 99.95%以上
ハイライト:

8.6g/Cm3ニオブの合金

,

半導体のためのニオブの放出させるターゲット

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半導体のためのニオブの合金

手のカスタム化のニオブ ターゲット純度99.95%の商品

 

ニオブ ターゲット紹介
耐食性の特徴によって、高温抵抗およびmalleabilityのニオブ ターゲットはコーティングの企業、電子産業、製鉄業、化学工業、光学、宝石用原石の製造業、宇宙航空超伝導の技術で広く利用されている。技術および他の分野。ニオブ ターゲットおよびシートはNbプロダクトの共通の形態である。
ニオブ ターゲット生産技術

電子ビームによって精製されて、ニオブ ターゲットはニオブのインゴットから作り出される。ターゲット製作は下記のものを含んでいる:機械変形、機械化(製粉するトリミングおよび平面)、真空の再結晶化のアニーリングおよび終わりの化学処置。

目標資料の高密度通常材料のstomataを減らすために要求され、の性能を改善するためにフィルムを放出させなさい。密度はフィルムの放出させる率、また電気および光学的性質にだけでなく、影響を与える。より高い目標資料の密度あれば、よりよいフィルムの性能の仕事。

さらに、目標資料の密度そして強さを高めることは放出させるプロセスの間によりよい熱圧力に抗できる。密度はまた目標資料の主要なパーフォーマンスの表示器の1つである。

 

商品の名前 99.95%高い純度のニオブ ディスク
サイズ カスタマイズ可能
表面 ポーランドおよび明るい
純度 99.95%
密度 8.6g/cm3
適用 鋼鉄の、超伝導材料、宇宙航空、原子力、等
利点

1) よい超伝導材料

2) より高い融点

3) 腐食Resitanceをよくしなさい

4) 摩耗抵抗をよくしなさい

技術 粉末や金
調達期間 量および材料に従って

連絡先の詳細
Luoyang Forged Tungsten-Molybdenum Material Co., Ltd.

コンタクトパーソン: Ms. Jiajia

電話番号: 15138768150

ファックス: 86-0379-65966887

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